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YZ-900EBI光學(xué)鍍膜設(shè)備

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主要用于:主要用于各類AR膜、AF膜、冷光膜、各種濾光片、高反膜、ITO透明導(dǎo)電膜等各類光學(xué)膜電學(xué)膜的鍍制
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產(chǎn)品詳情
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YZ-900EBI  光學(xué)真空鍍膜機(jī)

真空室內(nèi)腔尺寸:φ900mm*H1100mm

真空系統(tǒng):分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵

晶控:MXC-3B +六探頭

蒸發(fā)源:雙槍+固定阻蒸

空載極限真空:8.0x10-5Pa

空載恢復(fù)真空:2x10-3Pa 15min

加熱溫度:最高300

選件:離子源、POLYCOLD

電源:三相   380V    50HZ

設(shè)備重量:約2T

真空鍍膜機(jī)的內(nèi)腔尺寸、泵組配置等可根據(jù)客戶的鍍膜工藝量身定制



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13308020865
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真空系統(tǒng):分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵

晶控:MXC-3B +六探頭

蒸發(fā)源:雙槍+固定阻蒸

空載極限真空:8.0x10-5Pa

空載恢復(fù)真空:2x10-3Pa 15min

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