真空室內(nèi)腔尺寸：φ1100mm*H1300mm

真空系統(tǒng)：分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵

晶控：MXC-3B +六探頭

蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸

空載極限真空：8.0x10^-5Pa

空載恢復(fù)真空：2x10^-3Pa ≤15min

加熱溫度：最高300℃

選件：RF離子源  /霍爾源、POLYCOLD

電源：三相   380V    50HZ

設(shè)備重量：約3T

真空鍍膜機(jī)的內(nèi)腔尺寸、泵組配置等可根據(jù)客戶的鍍膜工藝量身定制