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YZ-700EBI光學(xué)鍍膜設(shè)備

主要用于：主要用于各類AR膜、AF膜、冷光膜、各種濾光片、高反膜、ITO透明導(dǎo)電膜等各類光學(xué)膜電學(xué)膜的鍍制

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產(chǎn)品詳情

YZ-700EBI 光學(xué)真空鍍膜機
真空室內(nèi)腔尺寸：φ700mm*H1000mm	真空系統(tǒng)：冷泵+雙極旋片泵+羅茨泵
晶控：MXC-3B +六探頭	蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸
空載極限真空：8.0x10^-5Pa	空載恢復(fù)真空：2x10^-3Pa ≤15min
加熱溫度：最高300℃	選件：離子源、POLYCOLD
電源：三相 380V 50HZ	設(shè)備重量：約2T
真空鍍膜機的內(nèi)腔尺寸、泵組配置等可根據(jù)客戶的鍍膜工藝量身定制

主要用于：主要用于各類AR膜、AF膜、冷光膜、各種濾光片、高反膜、ITO透明導(dǎo)電膜等各類光學(xué)膜電學(xué)膜的鍍制

13308020865

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真空室內(nèi)腔尺寸：φ700mm*H1000mm	真空系統(tǒng)：冷泵+雙極旋片泵+羅茨泵
晶控：MXC-3B +六探頭	蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸
空載極限真空：8.0x10^-5Pa	空載恢復(fù)真空：2x10^-3Pa ≤15min
加熱溫度：最高300℃	選件：離子源、POLYCOLD
電源：三相 380V 50HZ	設(shè)備重量：約2T
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