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YZ-2050EBI光學(xué)鍍膜設(shè)備

用途：主要用于各類AR膜、AF膜、防偽膜、ITO透明導(dǎo)電膜等各類光學(xué)膜電學(xué)膜的鍍制

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產(chǎn)品詳情

YZ-2050EBI 光學(xué)真空鍍膜機
真空室內(nèi)腔尺寸：φ2050mm*H1650mm	真空系統(tǒng)：擴散泵+雙極旋片泵+羅茨泵+維持泵+POLYCOLD
晶控：MXC-3B +六探頭	蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸
空載極限真空：8.0x10^-5Pa	空載恢復(fù)真空：2x10^-3Pa ≤10min
加熱溫度：最高250℃	選件：離子源 /旋轉(zhuǎn)阻蒸
電源：三相 380V 50HZ	設(shè)備重量：約11T
真空鍍膜機的內(nèi)腔尺寸、泵組配置等可根據(jù)客戶的鍍膜工藝量身定制

用途：主要用于各類AR膜、AF膜、防偽膜、ITO透明導(dǎo)電膜等各類光學(xué)膜電學(xué)膜的鍍制

13308020865

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晶控：MXC-3B +六探頭	蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸
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電源：三相 380V 50HZ	設(shè)備重量：約11T
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