光學(xué)鍍膜是指在真空條件下，用物理的方法在元件表面鍍上一層或多層膜的過程。光學(xué)鍍膜可以改變?cè)墓鈱W(xué)性能，以滿足不同場(chǎng)景的需求。

隨著工業(yè)技術(shù)的發(fā)展，用戶對(duì)鍍膜質(zhì)量以及生產(chǎn)成本提出了更高的要求，不斷提高的用戶需求使得必須不斷改進(jìn)生產(chǎn)工藝。

光學(xué)鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu) 

光學(xué)鍍膜機(jī)由真空系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)和電氣系統(tǒng)組成，其中真空系統(tǒng)由真空罐和排氣系統(tǒng)組成。

真空罐是鍍膜機(jī)的主體，鍍膜過程就是在真空罐中完成的，通過連接閥將真空罐和排氣系統(tǒng)相連。

為了防止空氣分子對(duì)濺射離子的影響、提高膜層的質(zhì)量，在工作時(shí)，必須將光學(xué)元件和離子源置于真空環(huán)境中。

排氣系統(tǒng)主要由機(jī)械泵、羅茨泵和真空泵組成，負(fù)責(zé)排出真空罐內(nèi)的氣體、使罐內(nèi)形成真空環(huán)境。

蒸鍍系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置有很多種，如電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等。

光學(xué)鍍膜機(jī)工作原理 

光學(xué)鍍膜機(jī)通過真空濺射的方式在光學(xué)元件上涂鍍薄膜， 以此改變?cè)?duì)入射光線的反射率和透過率。

同時(shí)，為了盡可能地減少元件表面的反射損失、提高成像質(zhì)量，往往涂鍍多層薄膜。光學(xué)元件鍍膜后，光在多層膜層的表面進(jìn)行多次反射和透射，形成多光束干涉，通過控制膜層的厚度和折射率，可以得到不同的強(qiáng)度分布。

利用這一原理可以制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等，以滿足更加復(fù)雜的需求。

相比于傳統(tǒng)的真空鍍膜機(jī)，光學(xué)鍍膜機(jī)有以下 3 個(gè)特點(diǎn)。

（1）光學(xué)薄膜表面光滑，膜層間的折射率在表面上可以躍變但在膜層內(nèi)折射率是穩(wěn)定不變的。 

（2）光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜過程中基件的溫升更低，所以光學(xué)鍍膜機(jī)可以在對(duì)溫度較敏感元件的表面鍍膜。

（3）對(duì)于光學(xué)元件的鍍膜，光學(xué)鍍膜機(jī)具有更高的精度，膜層更加均勻、光學(xué)性能更加穩(wěn)定。目前，光學(xué)鍍膜機(jī)已經(jīng)在光通信、光顯示、激光加工、航空航天和 AR（Augmented Reality，增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)）、VR（Virtual Reality，虛擬現(xiàn)實(shí)）等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。